کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9595184 | 1507974 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Methylsilane on Cu(1 1 1), a STM study of the (3Ã3)R30°-Cu2Si surface silicide
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Scanning tunnelling microscopy has been used to investigate the surface structure of the (3Ã3)R30°-Cu2Si surface silicide formed on Cu(1 1 1) after adsorption of methylsilane at 595 K. The STM images have shown the presence of a domain wall network on the surface, in the form of a 0.1 Ã
variation in height on the lateral scale of a minimum of 26Â Ã
. The interpretation of the STM images has indicated that the areas between the domains walls are associated with silicon and copper atoms both residing in either fcc or hcp three-fold hollow sites, whilst the domain wall is a result of an abrupt change enhanced with some electronic contribution.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 585, Issues 1â2, 1 July 2005, Pages 47-52
Journal: Surface Science - Volume 585, Issues 1â2, 1 July 2005, Pages 47-52
نویسندگان
Hervé Ménard, Andrew B. Horn, Steven P. Tear,