کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9610397 | 47183 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Low-temperature H2 and N2 transport through thin Pd66Cu34Hx layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Low-temperature H2 and N2 transport through thin Pd66Cu34Hx layers Low-temperature H2 and N2 transport through thin Pd66Cu34Hx layers](/preview/png/9610397.png)
چکیده انگلیسی
The single gas H2 and N2 permeability of a 4 μm thick dense fcc-Pd66Cu34 layer has been studied between room temperature and 510 °C and at pressure differences up to 400 kPa. Above 50 °C the H2 flux exhibits an Arrhenius-type temperature dependence with JH2=(5.2±0.3) mol mâ2 sâ1 exp[(â21.3 ± 0.2) kJ molâ1/(R·T)]. The hydrogen transport rate is controlled by the bulk diffusion although the pressure dependence of the H2 flux deviates slightly from Sieverts' law. A sudden increase of the H2 flux below 50 °C is attributed to embrittlement.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Catalysis Today - Volume 104, Issues 2â4, 30 June 2005, Pages 225-230
Journal: Catalysis Today - Volume 104, Issues 2â4, 30 June 2005, Pages 225-230
نویسندگان
Xiulian Pan, Mirjam Kilgus, Andreas Goldbach,