کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9671897 | 1450490 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Hole transport in p-channel Si MOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Using a Monte Carlo method, we investigate hole transport in ultrasmall p-channel Si MOSFETs with gate lengths of 25 nm. The device simulator couples a 2D Poisson solver with a discretized 6Ã6 k·p Hamiltonian solver that handles the valence band-structure and includes the effect of the confining potential under the gate, thereby providing the subband structure in the channel region. Carriers in the source and drain regions are treated as quasi-3D particles and the band-structure information is included by solving for the eigenenergies of a more compact 6Ã6 k·p Hamiltonian. It is seen that band-structure calculations are needed in order to describe accurately the high field transport in ultrasmall nano-scale MOSFETs.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 36, Issues 3â6, MarchâJune 2005, Pages 323-326
Journal: Microelectronics Journal - Volume 36, Issues 3â6, MarchâJune 2005, Pages 323-326
نویسندگان
Santhosh Krishnan, Dragica Vasileska, Massimo V. Fischetti,