کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9672153 | 1450564 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Radiation source dependence of performance degradation in thin gate oxide fully-depleted SOI n-MOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The degradation of the electrical performance of thin gate oxide fully depleted SOI n-MOSFETs and its dependence on the radiation particles are investigated. The transistors are irradiated with 7.5-MeV protons and 2-MeV electrons at room temperature without bias. The shift of threshold voltage and the coupling effect with the degraded opposite gate are clarified. A remarkable reduction of the floating body effects is observed after irradiation. The degradation of the extracted parameters is discussed by a comparison with the damage coefficients.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2005, Pages 1376-1381
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 9â11, SeptemberâNovember 2005, Pages 1376-1381
نویسندگان
K. Hayama, K. Takakura, H. Ohyama, S. Kuboyama, S. Matsuda, J.M. RafÃ, A. Mercha, E. Simoen, C. Claeys,