کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9801441 | 1515484 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication and characterization of anatase/rutile-TiO2 thin films by magnetron sputtering: a review
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
دانش مواد (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
This review article summarizes briefly some important achievements of our recent reserach on anatase and/or rutile TiO2 thin films, fabricated by helicon RF magnetron sputtering, with good crystal quality and high density, and gives the-state-of-the-art of the knowledge on systematic interrelationship for fabrication conditions, crystal structure, composition, optical properties, and bactericidal abilities, and on the effective surface treatment to improve the optical reactivity of the obtained films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Science and Technology of Advanced Materials - Volume 6, Issue 1, January 2005, Pages 11-17
Journal: Science and Technology of Advanced Materials - Volume 6, Issue 1, January 2005, Pages 11-17
نویسندگان
Sakae Tanemura, Lei Miao, Wilfried Wunderlich, Masaki Tanemura, Yukimasa Mori, Shoichi Toh, Kenji Kaneko,