کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9818224 | 1518777 | 2005 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Radiation effects microscopy for failure analysis of microelectronic devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this paper a review of the latest radiation effects microscopy (REM) work at Sandia will be given. Different SEE mechanisms (Single Event Upset, Single Event Transient, etc.) and the methods to study them (Ion Beam Induced Charge (IBIC), Single Event Upset mapping, etc.) will be discussed. Several examples of using REM to study the basic effects of radiation in electronic devices and failure analysis of integrated circuits will be given.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 231, Issues 1â4, April 2005, Pages 467-475
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 231, Issues 1â4, April 2005, Pages 467-475
نویسندگان
G. Vizkelethy, B.L. Doyle, D.K. Brice, P.E. Dodd, M.R. Shaneyfelt, J.R. Schwank,