کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9821534 1518986 2005 10 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The structure and properties of copper oxide and copper aluminium oxide coatings prepared by pulsed magnetron sputtering of powder targets
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
The structure and properties of copper oxide and copper aluminium oxide coatings prepared by pulsed magnetron sputtering of powder targets
چکیده انگلیسی
The direct deposition of transparent conductive oxide films from loosely packed powder targets by pulsed magnetron sputtering is a novel, highly versatile technique for the deposition of this type of material.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 79, Issues 3–4, 19 August 2005, Pages 221-230
نویسندگان
, ,