کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9821534 | 1518986 | 2005 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The structure and properties of copper oxide and copper aluminium oxide coatings prepared by pulsed magnetron sputtering of powder targets
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The direct deposition of transparent conductive oxide films from loosely packed powder targets by pulsed magnetron sputtering is a novel, highly versatile technique for the deposition of this type of material.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 79, Issues 3â4, 19 August 2005, Pages 221-230
Journal: Vacuum - Volume 79, Issues 3â4, 19 August 2005, Pages 221-230
نویسندگان
E.M. Alkoy, P.J. Kelly,