Keywords: اهداف پودر; Thin films; Magnetron sputter deposition; Powder targets; High entropy alloys
مقالات ISI اهداف پودر (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: اهداف پودر; Magnetron sputtering; Powder targets; Sputter yield; Angular distribution;
The characteristics of CdxSn1 − xO films prepared by RF magnetron sputtering from powder targets
Keywords: اهداف پودر; Multi-component TCO film; Powder targets; RF sputtering; Closed-field unbalanced magnetron sputtering
The characteristics of the plasma in a powder sputtering rig
Keywords: اهداف پودر; Pulsed magnetron sputtering; Closed-field unbalanced magnetron; Powder targets
The structure and properties of chromium diboride coatings deposited by pulsed magnetron sputtering of powder targets
Keywords: اهداف پودر; Chromium diboride; Pulsed magnetron sputtering; Pulsed biasing; Powder targets
Deposition of multicomponent chromium boride based coatings by pulsed magnetron sputtering of powder targets
Keywords: اهداف پودر; Powder targets; Pulsed magnetron sputtering; Multicomponent coatings; Chromium diboride; Molybdenum disulphide; Corrosion resistance
The structure and properties of copper oxide and copper aluminium oxide coatings prepared by pulsed magnetron sputtering of powder targets
Keywords: اهداف پودر; Pulsed magnetron sputtering; Powder targets; p-type semiconductors; Copper oxide coatings; Copper aluminium oxide coatings;