Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Stability; Chemical mechanical planarization (CMP); Barrier slurry aging; Zeta potential; Particle size
مقالات ISI پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP) (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Investigation of cu-BTA complex formation during Cu chemical mechanical planarization process
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Cu-BTA complex; Corrosion inhibition; Electrochemical impedance spectroscopy; Electrical equivalent circuit modeling;
A study on exploring the alkaline copper CMP slurry without inhibitors to achieve high planarization efficiency
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Planarization efficiency; Chemical mechanical planarization (CMP); FA/O chelating agent; Inhibitors; Chemical activation energy
Chemical mechanical planarization (CMP) of on-axis Si-face SiC wafer using catalyst nanoparticles in slurry
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Silicon carbide (SiC); Chemical mechanical planarization (CMP); Catalyst; Removal; Atomic step structure
Tribo-electrochemical characterization of copper with patterned geometry
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Copper; Step height reduction; Hertzian contact; Metal-ion-concentration-cell;
Effect of slurry aging on stability and performance of chemical mechanical planarization process
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Slurry aging; Agglomeration; Biocide; Extreme stabilization
A wafer-scale material removal rate profile model for copper chemical mechanical planarization
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Copper; Modeling; Material removal rate profile
Effect of additives for higher removal rate in lithium niobate chemical mechanical planarization
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Lithium niobate (LN; LiNbO3); Chemical mechanical planarization (CMP); Hydrogen peroxide (H2O2); Citric acid (C6H8O7); MRR (material removal rate);
Chemo-mechanical magneto-rheological finishing (CMMRF) of silicon for microelectronics applications
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Non-traditional machining; Chemical mechanical planarization (CMP); Magneto-rheological finishing (MRF);
Mechanical effect of colloidal silica in copper chemical mechanical planarization
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Colloidal silica; Abrasive concentration; Friction force; Friction energy
Mechanical effect of process condition and abrasive concentration on material removal rate profile in copper chemical mechanical planarization
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Copper; Chemical mechanical planarization (CMP); Material removal rate (MRR) profile; Sliding distance; Colloidal silica
A kinematic analysis of disk motion in a double sided polisher for chemical mechanical planarization (CMP)
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Double sided polisher; Trajectory analysis
Experimental dynamics characterization and monitoring of MRR in oxide chemical mechanical planarization (CMP) process
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); Wireless sensor; Nonlinear dynamics; Statistical analysis
Investigation of polishing characteristics of shallow trench isolation chemical mechanical planarization with different types of slurries
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); Chemical mechanical planarization (CMP); STI (Shallow trench isolation); High selectivity slurry; Yield
Synthesis of nano-sized ceria powders by two-emulsion method using sodium hydroxide
Keywords: پلاریزاسیون مکانیزم شیمیایی (CMP); CeO2; Powders-chemical preparation; Chemical mechanical planarization (CMP); Two-emulsion synthesis;