![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Preparation of porous alumina-g-polystyrene sulfonic acid abrasive and its chemical mechanical polishing behavior on hard disk substrate
Keywords: بستر هارد دیسک; Chemical mechanical polishing (CMP); Porous alumina-g-polystyrene sulfonic acid abrasive; Hard disk substrate; Planarization