دانلود مقالات ISI درباره عکسبردار + ترجمه فارسی

Chemical and structural modifications in a 193-nm photoresist after low-k dry etch

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Polymethacrylate; Plasma; Dielectric etch; Low-k; Polymer characterization; Degradation; Cross-linking

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Optimizations of a photoresist coating process for photolithography in wafer manufacture via a radial basis neural network: A case study

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Radial basis neural network; Optimization; ANOVA

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Effects of microwave-assisted digestion on decomposition behavior of polymethyl methacrylate (PMMA)

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Microwave digestion; Degradation; Polymer; Digestion kinetics; PMMA

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 9 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Preparation and properties of nano-silica modified negative acrylate photoresist

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Binder; Sol–gel method; Organic–inorganic nanohybrid

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 9 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Acrylation of polyvinylsilazane with allyl bromide for an UV photosensitive inorganic polymer

Keywords: عکسبردار; Inorganic polymer; Polyvinylsilazane; Photoresist; UV sensitivity

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

20 nm Line/space patterns in HSQ fabricated by EUV interference lithography

Keywords: عکسبردار; EUV lithography; Hydrogen silsesquioxane (HSQ); Photoresist; Contrast; Sensitivity; High resolution

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Periodic sub-micrometric structures using a 3D laser interference pattern

Keywords: عکسبردار; 42.25.Hz; 42.70.Gi; 42.82.Cr; 78.30.Jw; 82.35.+t; Sub-micrometric periodic structures; Photonic band gap; Photoresist;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Dill's parameter measure in liquid photosensitive materials via interferometric method

Keywords: عکسبردار; 42.25.Hz; 42.70.Jk; 42.70.Gi; 82.20.−w; 82.50.Hp; 83.80.Rs; Photoresist; Interferometry; Dill's parameter; Refractive index;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Polymerization of bisphenol a using Coprinus cinereus peroxidase (CiP) and its application as a photoresist resin

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Bisphenol A; Enzymatic polymerization; Coprinus cinereus peroxidase

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

AZ-1518 Photoresist analysis with synchrotron radiation using high-resolution time-of-flight mass spectrometry

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Photodegradation; Photon stimulated ion desorption; Positive ions; Time-of-flight mass spectrometry;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Surfactant-aided supercritical carbon dioxide drying for photoresists to prevent pattern collapse

Keywords: عکسبردار; Supercritical carbon dioxide; Pattern collapse; Surfactant; Wafer cleaning; Photoresist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Understanding deviations in lithographic patterns near interfaces: Characterization of bottom anti-reflective coatings (BARC) and the BARC-resist interface

Keywords: عکسبردار; Anti-reflective coating; Photolithography; Footing; Undercutting; BARC; Photoresist; Lithography; Interface;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 10 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

Chemistry of photolithographic imaging materials based on the chemical amplification concept

Keywords: عکسبردار; Photolithography; Chemical amplification; Photoacid generator; Photoresist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 17 صفحه سال انتشار : 2007 سفارش ترجمه

A simple lithographic method employing 172 nm vacuum ultraviolet light to prepare positive- and negative-tone poly(methyl methacrylate) patterns

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Vacuum ultraviolet; Poly(methyl)methacrylate; Atomic force microscopy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Stripping of photoresist on silicon wafer by CO2 supercritical fluid

Keywords: عکسبردار; Supercritical; Photoresist; Stripping; Factorial experiment design; Extraction; Alloy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Proton beam writing of microstructures at the ion nanoprobe LIPSION

Keywords: عکسبردار; 07.78.+s; 61.82.Pv; 81.15.Pq; 85.40.HpMicrostructures; Proton beam writing; Ion nanoprobe; Ni plating; Photoresist

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Maskless liquid-crystal-display projection photolithography for improved design flexibility of cellular micropatterns

Keywords: عکسبردار; Liquid crystal display projector; Maskless; Cell micropatterning; Photolithography; Photoresist; Polyacrylamide

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Quantitative depth profiling of photoacid generators in photoresist materials by near-edge X-ray absorption fine structure spectroscopy

Keywords: عکسبردار; Immerison lithography; Lithography; Photoresist; Segregation; Near edge X-ray absorption fine spectroscopy; NEXAFS; Thin film;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Immobilisation of DNA to polymerised SU-8 photoresist

Keywords: عکسبردار; SU-8; DNA; Immobilisation; Photoresist; Hybridisation; Microstructure; MEMS; Lab-on-a-chip

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Enhanced cleaning of photoresist film on a transparent substrate by backward irradiation of a Nd:YAG laser

Keywords: عکسبردار; 79.20.Ds; 81.65.Cf; 52.38.Mf; 81.20Rg; 92.60.Mt; Laser cleaning; Photoresist; Glass substrate; Particle monitoring; Backward irradiation;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Theoretical consideration of pits recording and etching processes in chalcogenide vitreous semiconductors

Keywords: عکسبردار; 78.20.Ci; 78.66.Jg; Information pits; Optical disks; Photoresist; Selective etching;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Effect of copolymer composition on acid-catalyzed deprotection reaction kinetics in model photoresists

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Photoacid; Reaction-diffusion;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 10 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Optical lithography-a historical perspective

Keywords: عکسبردار; Optical lithography; Photoresist; Phase shifting mask; Optical proximity correction; 157 nm lithography; Immersion lithography; EUV lithography; Lithographie optique; Résine photosensible; Masque à décalage de phase; Correction d'effets de proximité;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 14 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

A resistless photolithography method for robust markers and electrodes

Keywords: عکسبردار; Photoresist; Lithography; Electrode fabrication; Markers; DPN;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه

From MEMS to NEMS with carbon

Keywords: عکسبردار; Carbon-microelectromechanical system (C-MEMS); Photoresist; Pyrolysis; High-aspect ratio; Suspended structure

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه

A study of the geometry of microball lens arrays using the novel batch-fabrication technique

Keywords: عکسبردار; Microball lens; Neck size; Critical aspect ratio; Reflow; Surface tension; Insertion loss; Photoresist; PI;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 9 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه