پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است

در این صفحه تعداد 149 مقاله تخصصی درباره پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است که در نشریه های معتبر علمی و پایگاه ساینس دایرکت (Science Direct) منتشر شده، نمایش داده شده است. برخی از این مقالات، پیش تر به زبان فارسی ترجمه شده اند که با مراجعه به هر یک از آنها، می توانید متن کامل مقاله انگلیسی همراه با ترجمه فارسی آن را دریافت فرمایید.
در صورتی که مقاله مورد نظر شما هنوز به فارسی ترجمه نشده باشد، مترجمان با تجربه ما آمادگی دارند آن را در اسرع وقت برای شما ترجمه نمایند.
مقالات ISI پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است; Low pressure chemical vapor deposition; Silicon; Nanocrystals; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Amorphous silicon carbide; Transmission electron microscopy; X-ray photoelectron spectroscopy; Silicon carbide
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Silicon; Nanocrystals; Oxynitride; Fourier transfomed infrared spectroscopy; Photoluminescence; Superlattices; Size control
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition; Physical Vapor Deposition; Silver; Hydrogenated silicon oxycarbide; X-ray Photoelectron Spectroscopy; Secondary Ion Mass Spectrometry; Transmission Electron Microscopy; Antibacterial activity
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Silicon oxide; Hexamethyldisiloxane; Atomic force microscopy; Water vapor transmission rate
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است; 52.75.Rx; 52.25.−b; 73.90.+fSilicon oxide thin film; Nitrogen-incorporated silicon oxide thin films; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Tetramethoxysilane; Optical emission spectroscopy
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: پلاسما از رسوب بخار شیمیایی افزایش یافته است; Aluminum nitride; Thin films; Piezoelectric films; Bulk acoustic wave devices; Surface acoustic wave devices; Plasma enhanced chemical vapor deposition; X-ray diffraction; Fourier transform infrared spectroscopy