Keywords: اکتیو یونی واکنشی; POC; point of care; TV-GS-MS; thermal volatilization gas chromatography mass spectrometry; MSL; Mars Science Laboratory; SAM; sample analysis at Mars; MTBSTFA; N-methyl-N-tert-butyldimethylsilyl-trifluoroacetamide; MECA; microscopy electrochemistry and co
مقالات ISI اکتیو یونی واکنشی (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; Nylon fabric; Reactive-ion etching; Oxygen plasma; Surface modification; Texturing; DC self-bias voltage;
Optically-rough and physically-flat TCO substrates for superstrate-type thin-film solar cells: Sol-gel Zn1âxMgxO coating on reaction-ion etched glass substrates
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; Optically-rough and physically-flat TCO substrate; Zn1âxMgxO; Reactive-ion etching; Sol-gel process; Light-scattering; Thin-film solar cells;
Pulsed femtosecond-laser Machining and deep reactive ion etching of diamond
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; Diamond; Femtosecond laser machining; Raman; Carbon; Reactive-ion etching; Through-diamond vias;
Microfluidic devices for the study of actin cytoskeleton in constricted environments: Evidence for podosome formation in endothelial cells exposed to a confined slit
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; PDMS; polydimethylsiloxane; RIE; reactive-ion etching; ICP; inductively coupled plasma; EGFP; enhanced green fluorescence protein; FN; fibronectin; TGFβ; transforming growth factor beta; IRM; interference reflection microscopy; DIC; differential interfer
Plasma-etching fabrication and properties of black silicon by using sputtered silver nanoparticles as micromasks
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; Black silicon; Silver nanometer-size particle; Reactive-ion etching; Minority lifetime; Nanohill structure;
Reactive-ion etching of Sn-doped Ge2Sb2Te5 in CHF3/O2 plasma for non-volatile phase-change memory device
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; Sn-doped germanium antimony telluride; Reactive-ion etching; Selectivity; Phase change material; scanning electron microscopy; Trifluoromethane; Oxygen; CHF3/O2
Reactive-ion etching of Ge2Sb2Te5 in CF4/Ar plasma for non-volatile phase-change memories
Keywords: اکتیو یونی واکنشی; Ge2Sb2Te5 (GST); Reactive-ion etching; Chalcogenide random access memory