کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10364490 | 871721 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ab initio study of the nitridation of the GaAs (100) surfaces
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We present, in this work, our preliminary results of a systematic theoretical study of the adsorption of N over As-terminated GaAs (100) (2Ã1) surfaces. We analyzed the changes in the bond-lenghts, bond-angles and the energetics involved before and after deposition. Our results show that the N-atoms will prefer the unoccupied sites of the surface, close to the As dimer. The presence of the N pushes the As dimer out of the surface, leading to the anion exchange between the N and As atoms. Based on our results, we discussed about the kinetics of the N island formation during epitaxial growth of the III-Nitrides.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 36, Issue 11, November 2005, Pages 1045-1048
Journal: Microelectronics Journal - Volume 36, Issue 11, November 2005, Pages 1045-1048
نویسندگان
A.P. Castro, H.W. Leite Alves,