کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10411941 | 894849 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Properties of Pt/4H-SiC Schottky diodes with interfacial layer at elevated temperatures
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Pt/4H-SiC Schottky diodes were fabricated and their current-voltage (I-V) characteristics within the temperature range of 300-480 K were subsequently measured and analyzed. Diodes' parameters (barrier height, ideality factor and series resistance) were extracted from the I-V curves using Cheung's method. Based on I-V and high-frequency capacitance-voltage (C-V) measurements the interface states distribution in the semiconductor bandgap was determined. Analysis of obtained results indicates the presence of thin interfacial layer between metal and semiconductor.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 49, Issue 4, April 2005, Pages 585-590
Journal: Solid-State Electronics - Volume 49, Issue 4, April 2005, Pages 585-590
نویسندگان
Mariusz Sochacki, Adam Kolendo, Jan Szmidt, Aleksander Werbowy,