کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10631076 | 991537 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optical properties and chemical bonding characteristics of amorphous SiNX:H thin films grown by the plasma enhanced chemical vapor deposition method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Amorphous SiNX:H thin films were grown using plasma enhanced chemical vapor deposition. ⺠Growth rate, optical and chemical bonding characteristics of SiNX:H thin films were studied. ⺠Rapid thermal processing caused changes in microstructural and optical properties of SiNX:H.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 358, Issue 3, 1 February 2012, Pages 577-582
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 358, Issue 3, 1 February 2012, Pages 577-582
نویسندگان
Yin He, Yuanzhe Wang, Wang Li, Weizhi Han, Zhijuan Hu, Xiaomei Qin, Guoping Du, Wangzhou Shi,