کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10631156 | 991540 | 2012 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Remote plasma deposition of microcrystalline silicon thin-films: Film structure and the role of atomic hydrogen
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠In depth analysis of remote-plasma deposited μc-Si:H films is presented. ⺠The poor μc-Si:H film quality is linked to an insufficient amount of a-Si:H tissue. ⺠It has been investigated whether atomic H is responsible. ⺠H-induced etching of a-Si:H tissue does not compete with μc-Si:H film growth. ⺠Nor does hydrogen incorporation lead to an increased a-Si:H film porosity.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 358, Issue 2, 15 January 2012, Pages 379-386
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 358, Issue 2, 15 January 2012, Pages 379-386
نویسندگان
A.C. Bronneberg, M.C.M. van de Sanden, M. Creatore,