کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10668223 1008347 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modelling of sputtering yield amplification in serial reactive magnetron co-sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Modelling of sputtering yield amplification in serial reactive magnetron co-sputtering
چکیده انگلیسی
► Model of sputtering yield amplification with rotating magnetrons was developed. ► The influence of W and Bi doping was analyzed. ► Deposition rate increase of up to 100% was predicted for reactive deposition of Al2O3. ► Results are in good agreement with experiments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 24, 15 August 2012, Pages 5055-5059
نویسندگان
, , , , , , , ,