کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668223 | 1008347 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modelling of sputtering yield amplification in serial reactive magnetron co-sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Model of sputtering yield amplification with rotating magnetrons was developed. ⺠The influence of W and Bi doping was analyzed. ⺠Deposition rate increase of up to 100% was predicted for reactive deposition of Al2O3. ⺠Results are in good agreement with experiments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 24, 15 August 2012, Pages 5055-5059
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 24, 15 August 2012, Pages 5055-5059
نویسندگان
T. Kubart, R.M. Schmidt, M. Austgen, T. Nyberg, A. Pflug, M. Siemers, M. Wuttig, S. Berg,