کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668459 | 1008373 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition and structure characterization of carbon films prepared at atmospheric pressure by plasma jet
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠The carbon coatings were deposited by plasma jet at the atmospheric pressure. ⺠The growth rate and structure strongly depends on the deposition parameters. ⺠The carbon films with the highest microhardness (7.1-9.3 GPa) were deposited at 0.005 m. ⺠The increase Ar/C2H2 ratio and distance increases the H and O content in films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S71-S74
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S71-S74
نویسندگان
Liutauras Marcinauskas, Vitas ValinÄius, Alfonsas Grigonis,