کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1307143 | 975124 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Synthesis and structure of a hafnium silylamide complex and the chemical vapor deposition of HfxSi1−xO2 films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی معدنی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The complex Hf[N(SiMe2H)2]4 was synthesized, structurally characterized, and used as a precursor with oxygen to prepare hafnium silicate thin films at substrate temperatures ⩾500 °C in a low-pressure CVD process. The as-deposited films were amorphous, and they remained amorphous upon annealing up to 1100 °C.
Tetrakis(bis(dimethylsilyl)amido)hafnium and oxygen produce amorphous hafnium silicate films in a low-pressure CVD process.Figure optionsDownload as PowerPoint slide
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Inorganica Chimica Acta - Volume 362, Issue 2, 20 January 2009, Pages 385–388
Journal: Inorganica Chimica Acta - Volume 362, Issue 2, 20 January 2009, Pages 385–388
نویسندگان
Edixa de L. Jiménez, Saba Javed, David M. Hoffman,