کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1482698 | 991574 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of chlorine dissociation for modified chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Impact of chlorine dissociation for modified chemical vapor deposition Impact of chlorine dissociation for modified chemical vapor deposition](/preview/png/1482698.png)
چکیده انگلیسی
Modified chemical vapor deposition (MCVD) is the platform technology used to create a wide range of silica-based optical fibers. This paper reports on the extension of the reaction scheme embedded within a computational fluid dynamics model of the MCVD process to include chlorine dissociation and recombination. Simulations employing this modified kinetic scheme indicate that chlorine dissociation acts primarily as a ‘heat sink’ in cases where the operating conditions promote a high peak temperature in the narrow reaction zone where most of the SiCl4 oxidation occurs. The extended model allows a wider range of operating parameters to be examined in terms of the deposition profile of silica ‘soot’ particles on the substrate tube wall.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 355, Issue 13, 15 May 2009, Pages 817–820
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 355, Issue 13, 15 May 2009, Pages 817–820
نویسندگان
Catherine K.W. Cheung, David F. Fletcher, Geoffrey W. Barton,