کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1530643 1511996 2009 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The self-interstitial in silicon and germanium
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
The self-interstitial in silicon and germanium
چکیده انگلیسی

Low temperature irradiation experiments show a remarkable contrast between Si and Ge, suggesting that the behavior of self-interstitials and vacancies is very different in the two materials. The present paper reviews theoretical and experimental investigations of the defects in an attempt to understand these differences.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volumes 159–160, 15 March 2009, Pages 112–116
نویسندگان
, , , ,