کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1535303 1512622 2013 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Contribution of higher order plasmonic modes on optical absorption enhancement in amorphous silicon thin films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Contribution of higher order plasmonic modes on optical absorption enhancement in amorphous silicon thin films
چکیده انگلیسی

For an array of regularly patterned interacting spherical Ag nano particles over an amorphous silicon (a-Si:H) layer of thickness 200 nm, we use Finite Difference Time Domain method for studying the plasmonic absorption enhancement within the a-Si:H layer over the visible range (400 nm–750 nm). The nano particle radius (R) has been varied from 100 nm to 200 nm and array period (D) from 320 nm to 500 nm satisfying the criteria 2R

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optics Communications - Volume 300, 15 July 2013, Pages 77–84
نویسندگان
, ,