کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1621574 | 1516396 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of ultrasonic field in pulse electrodeposition of NiFe film on Cu substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
NiFe film was pulse electrodeposited on conductive Cu substrate under galvanostatic mode in the presence of an ultrasonic field. The NiFe film electrodeposited was subjected to structural and surface analyses by X-ray diffraction, energy dispersive X-ray spectroscopy, surface profiling and scanning electron microscopy, respectively. The results show that the ultrasonic field has significantly improved the surface roughness, reduced the spherical grain size in the range from 490–575 nm to 90–150 nm, and increased the Ni content from 76.08% to 79.74% in the NiFe film electrodeposited.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 481, Issues 1–2, 29 July 2009, Pages 336–339
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 481, Issues 1–2, 29 July 2009, Pages 336–339
نویسندگان
R. Balachandran, H.K. Yow, B.H. Ong, R. Manickam, V. Saaminathan, K.B. Tan,