کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1657765 | 1517647 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The film deposition via atmospheric pressure plasma from ethanol and He mixing gases
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Side glass substrate was subjected to be used in this experiment. ⺠With method of using APPT of mixing He gas and ethanol to deposit organic thin film and improve the surface hydrophilic. ⺠NIPAAm has specific thermo-sensitive property and lower critical solution temperature (LCST) is 33 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 231, 25 September 2013, Pages 408-411
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 231, 25 September 2013, Pages 408-411
نویسندگان
Ko-Shao Chen, Shu-Chuan Liao, Shen-Wei Lin, Shao-Hsuan Tsao, Tsai Hsin Ting, Norihiro Inagaki, Hsin-Ming Wu, Wei-Yu Chen,