کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1658043 | 1517651 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition of Pt and Sn doped CeOx layers on silicon substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Radio Frequency Magnetron Sputtering is used to elaborate CeOx layers doped with platinum and/or tin on a SiO2/Si substrate. Morphology, chemical composition and crystallographic structures were investigated by Transmission Electron Microscopy. The presence of nanoparticles of mainly ceria and metallic platinum is exhibited.
► CeOx layers doped with platinum were elaborated by Radio Frequency Magnetron Sputtering.
► Combination of structural analyses (HRTEM, SAED, EDX) was carried out.
► Nanoparticles of mainly ceria and metallic platinum were pointed out.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 227, 25 July 2013, Pages 15–18
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 227, 25 July 2013, Pages 15–18
نویسندگان
Stéphanie Bruyère, Arnaud Cacucci, Valérie Potin, Iva Matolinova, Mykhailo Vorokhta, Vladimir Matolin,