کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1658482 | 1008343 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Annealing effects in Ag-doped amorphous carbon films deposited by dc magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Ag-doped a-C films deposited by dc magnetron sputtering. ⺠As-deposited C/Ag film consists of Ag nanoparticles embedded in a-C matrix. ⺠Annealing at 600 °C in vacuum initiates process of Ag particles coalescence. ⺠The coalescence occurs by diffusion of Ag atoms and collisions of particles.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 16, 15 April 2012, Pages 3450-3453
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 16, 15 April 2012, Pages 3450-3453
نویسندگان
A.A. Onoprienko, M.I. Danylenko,