کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1658605 | 1008350 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Hydrogen plasma induced crystallization of Si thin films by remote inductively coupled plasma source assistant pulsed dc twin magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠ICP-assisted magnetron sputtering is developed for poly-Si films below 300 °C. ⺠Atomic hydrogen or active Si atoms is an insufficient condition. ⺠Hydrogen plasma plays the key role in the formation of poly-Si films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 14, 15 March 2012, Pages 3159-3164
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 14, 15 March 2012, Pages 3159-3164
نویسندگان
Yuanjun Su, Jun Xu, Chuang Dong, Wenqi Lu,