کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1660840 | 1008413 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio-frequency plasma chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio-frequency plasma chemical vapor deposition Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio-frequency plasma chemical vapor deposition](/preview/png/1660840.png)
چکیده انگلیسی
Mechanical properties of diamond-like carbon films by an effective addition of negative pulsed high-voltage-bias have been investigated in capacitively coupled CH4/Ar radio-frequency plasma. The results revealed that hardness and elastic modulus of the deposited film, estimated from nano-indentation load-displacement curve for about 1 μm-thick films, increase with the increase of the absolute value of high-voltage VNPHV for VNPHV < 5 kV and then saturate. Elastic recovery R got the highest value (> 90%) at VNPHV = 5 kV.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issue 15, 23 April 2007, Pages 6674-6677
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issue 15, 23 April 2007, Pages 6674-6677
نویسندگان
Y. Ohtsu, H. Noda, C. Nakamura, T. Misawa, H. Fujita, M. Akiyama, C. Diplasu,