کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1682424 1010469 2015 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Radiation induced deep level defects in bipolar junction transistors under various bias conditions
ترجمه فارسی عنوان
پرتو در نقاط عمیق سطح در ترانزیستورهای پیوند دوقطبی تحت شرایط مختلف اختلال ایجاد شده است
کلمات کلیدی
ترانزیستور اتصال دو قطبی، اثرات تابش، یون های سنگین تضعیف شدن، شرایط اختلال
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
چکیده انگلیسی

Bipolar junction transistor (BJT) is sensitive to ionization and displacement radiation effects in space. In this paper, 35 MeV Si ions were used as irradiation source to research the radiation damage on NPN and PNP bipolar transistors. The changing of electrical parameters of transistors was in situ measured with increasing irradiation fluence of 35 MeV Si ions. Using deep level transient spectroscopy (DLTS), defects in the bipolar junction transistors under various bias conditions are measured after irradiation. Based on the in situ electrical measurement and DLTS spectra, it is clearly that the bias conditions can affect the concentration of deep level defects, and the radiation damage induced by heavy ions.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 365, Part A, 15 December 2015, Pages 247–251
نویسندگان
, , , , , ,