کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1794096 | 1023691 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
p-Type behavior in Li-doped Zn0.9Mg0.1O thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: p-Type behavior in Li-doped Zn0.9Mg0.1O thin films p-Type behavior in Li-doped Zn0.9Mg0.1O thin films](/preview/png/1794096.png)
چکیده انگلیسی
We report on Li-doped p-type Zn0.9Mg0.1O thin films grown by pulsed laser deposition. An optimal p-type conductivity is achieved at the substrate temperature of 550 °C, namely a resistivity of 45.4 Ω cm, a Hall mobility of 0.302 cm2 V−1 s−1, and a hole concentration of 4.55×1017 cm−3. Additionally, the p-type conductivity is stable over 5 months. From temperature-dependent photoluminescence, the energy level of LiZn acceptor is determined to be 167 meV above the valence band maximum.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 6, 15 March 2008, Pages 1029–1033
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 6, 15 March 2008, Pages 1029–1033
نویسندگان
X.H. Pan, Z.Z. Ye, J.Y. Huang, Y.J. Zeng, H.P. He, X.Q. Gu, L.P. Zhu, B.H. Zhao,