کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1794496 | 1023700 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microstructural properties and atomic arrangements of GaN nanorods grown on Si (1Â 1Â 1) substrates by using hydride vapor phase epitaxy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
X-ray diffraction (XRD) patterns, field-emission scanning electron microscopy (FESEM) images, transmission electron microscopy (TEM) images, and selected area electron diffraction pattern (SADP) images showed that one-dimensional GaN nanorods with c-axis-oriented single-crystalline wurzite structures were grown on Si (1Â 1Â 1) substrates by using improved hydride vapor phase epitaxy. The high-resolution TEM (HRTEM) images showed that the crystallized GaN nanorods contained very few defects. The atomic arrangements for the GaN nanorods grown on the Si (1Â 1Â 1) substrates are described on the basis of the XRD, the TEM, the SADP, and the HRTEM results.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 12, 1 June 2008, Pages 2977-2980
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 12, 1 June 2008, Pages 2977-2980
نویسندگان
K.H. Lee, Y.H. Kwon, S.Y. Ryu, T.W. Kang, J.H. Jung, D.U. Lee, T.W. Kim,