کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1794778 | 1023707 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Temperature dependence of La2Hf2O7La2Hf2O7 thin films growth on Si(0 0 1) substrates by pulsed laser deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Temperature dependence of La2Hf2O7La2Hf2O7 thin films growth on Si(0 0 1) substrates by pulsed laser deposition Temperature dependence of La2Hf2O7La2Hf2O7 thin films growth on Si(0 0 1) substrates by pulsed laser deposition](/preview/png/1794778.png)
چکیده انگلیسی
La2Hf2O7La2Hf2O7 (LHO) films have been grown on Si(0 0 1) substrates using an ultrahigh vacuum pulsed laser deposition (PLD) system at different temperatures. Structure characterization shows that the epitaxy growth of LHO films has obvious temperature dependence. The epitaxy growth of LHO films is observed over 780 °C and the predominant orientation is (001)LHO∥(001)Si and [110]LHO∥[110]Si, indicating a remarkable tendency of cube-on-cube epitaxy. The high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) results illustrate that the LHO film deposited at 780 °C is in pyrochlore phase and the interface between LHO and substrate is ultimately clean.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 18, 15 August 2008, Pages 4065–4068
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 18, 15 August 2008, Pages 4065–4068
نویسندگان
Feng Wei, Hailing Tu, Yi Wang, Shoujing Yue, Jun Du,