کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1796188 | 1023739 | 2006 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Apparent band-gap shift in InN films grown by remote-plasma-enhanced CVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The properties of indium nitride grown at various temperatures on c-plane sapphire and glass substrates, using remote plasma-enhanced chemical vapour deposition, have been investigated. The optical absorption spectra show a broad range of apparent band-gap values from approximately 2.3–0.9 eV, depending on the growth temperature. The influence of growth temperature on crystallinity, level of impurity incorporation, stoichiometry, and lattice distortion are analysed. The possible causes of the apparent band-gap shift in indium nitride are discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 288, Issue 2, 1 March 2006, Pages 241–246
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 288, Issue 2, 1 March 2006, Pages 241–246
نویسندگان
Patrick P.-T. Chen, K. Scott A. Butcher, Marie Wintrebert-Fouquet, Richard Wuhrer, Matthew R. Phillips, Kathryn. E. Prince, Heiko Timmers, Santosh K. Shrestha, Brian F. Usher,