کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5010441 | 1462208 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A band-modulation device in advanced FDSOI technology: Sharp switching characteristics
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A band-modulation device is demonstrated experimentally in advanced FDSOI (Fully Depleted SOI). The Z2-FET (Zero Impact Ionization and Zero Subthreshold Slope FET) is a very recent sharp switching device which achieves remarkable performance in terms of leakage current and triggering control. The device is fabricated with Ultra-Thin Body and Buried Oxide (UTBB) Silicon-On-Insulator (SOI) technology, features an extremely sharp on-switch, low leakage and an adjustable triggering voltage (VON). The Z2-FET operation relies on the modulation of electrons and holes injection barriers. In this paper, we show, for the first time, experimental data obtained with the most advanced FDSOI node.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 125, November 2016, Pages 103-110
Journal: Solid-State Electronics - Volume 125, November 2016, Pages 103-110
نویسندگان
Hassan El Dirani, Yohann Solaro, Pascal Fonteneau, Charles-Alex Legrand, David Marin-Cudraz, Dominique Golanski, Philippe Ferrari, Sorin Cristoloveanu,