کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5184845 | 1381059 | 2011 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Materials with tunable low-k dielectric constant derived from functionalized octahedral silsesquioxanes and spherosilicates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی آلی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Linked octahedral silsesquioxanes and spherosilicates offer a unique approach to tailor materials with low dielectric constants. The key lies in the design of the linking structures, which is determined by the nature of the hydrolyzable alkoxysilyl groups in the monomer. Thus, the molecular structure of the monomers influences structural, dielectric, and mechanical properties of the spin-coated polymer films via the number of alkoxysilyl groups introduced. Dielectric constants and hardness can be tuned in the range k = 2.4-3.0 and 0.20-0.85 GPa, respectively. With the use of a porogen, a dielectric constant as low as 1.9 is achieved.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Polymer - Volume 52, Issue 12, 26 May 2011, Pages 2492-2498
Journal: Polymer - Volume 52, Issue 12, 26 May 2011, Pages 2492-2498
نویسندگان
Felix Eckstorff, Yongzhong Zhu, Robert Maurer, Thomas E. Müller, Sabine Scholz, Johannes A. Lercher,