A simulation approach to study photo-degradation processes of polymeric coatings

تخریب شیمیایی پوشش های پلیمری از طریق یک مسیر عکس اکسیداتیو که به عنوان تخریب عکس نامیده می شود، منجر به تغییرات فیزیکی می شود که علیرغم عمر طولانی پوشش ها در نهایت منجر به شکست مواد می شود. شبیه سازی های مولکولی متعارف با طیف گسترده ای از مقیاس های زمانی و طولی، با وقوع نادر «وقایع تخریب» در مقایسه با مقیاس زمان آرام سازی ساختاری زنجیره های پلیمری، نمی تواند با این روند روبرو شود. بنابراین برای غلبه بر این مشکل، ترکیبی از تکنیک های شبیه سازی مناسب مورد نیاز است. با ترکیب یک شبیه سازی جنبشی مونت کارلو به یک روش دینامیکی ذرات ریز، یک رویکرد شبیه سازی جدید ایجاد شده است که باعث می شود مسیر شیمیایی و فیزیکی فرایند تخریب عکس را در نظر بگیریم. برای یک مدل پوشش پلیاستر-اوریتان، تخریب عکس تحت شرایط غیر مستقیم با در نظر گرفتن و بدون استفاده از آرامش ساختاری به حساب می آید و همچنین با تغییر نسبت ثابت سرعت سرعت واکنش. برای مدل پوششی مورد مطالعه، در نظر گرفتن آرامش فیزیکی برای مدل سازی فرایند تخریب عکس ضروری است.