کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5207993 | 1503002 | 2016 | 52 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Directed self-assembly of block copolymers on chemical patterns: A platform for nanofabrication
ترجمه فارسی عنوان
خودمراقبتی مستقیم از کوپلیمرهای بلوکی بر روی الگوهای شیمیایی: یک پلت فرم برای ساخت نانوذرات
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
مونتاژ مستقیم رهبری الگوی شیمیایی، لیتوگرافی بلوک کوپلیمر، نانوفیبریت، انتقال الگو، رسانه های بیت الگوی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی آلی
چکیده انگلیسی
Directed self-assembly (DSA) of block copolymers (BCPs) on lithographically defined chemically nanopatterned surfaces (or chemical patterns) combines advantages of conventional photolithography and polymeric materials and shows promise for meeting a sufficiently inclusive set of manufacturing constraints for applications in semiconductors and data storage. DSA attracts attention from both academia and industry and tremendous progress has been achieved in the past decade. This review highlights the development of DSA with an emphasis on efforts toward the integration of block copolymer lithography into the current lithographic process for the fabrication of devices for integrated circuits and bit-patterned media.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Progress in Polymer Science - Volumes 54â55, MarchâApril 2016, Pages 76-127
Journal: Progress in Polymer Science - Volumes 54â55, MarchâApril 2016, Pages 76-127
نویسندگان
Shengxiang Ji, Lei Wan, Chi-Chun Liu, Paul F. Nealey,