| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 5221030 | 1383407 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												Cu-deposits on Mg metal surfaces promote electron transfer reactions
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													شیمی
													شیمی آلی
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												چکیده انگلیسی
												The enhancement of the electron transfer processes in the Grignard reagent formation-type ring silylation and the defluorination-silylation of perfluoroalkyl benzenes by Cu(0)-deposited Mg metal were confirmed. Microscopic analysis and substituent effects implied a different reduction process in the presence of Cu-deposited Mg metal than in the presence of bare Mg metal.
ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Tetrahedron - Volume 68, Issue 4, 28 January 2012, Pages 1085-1091
											Journal: Tetrahedron - Volume 68, Issue 4, 28 January 2012, Pages 1085-1091
نویسندگان
												Shinya Utsumi, Toshimasa Katagiri, Kenji Uneyama,