کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5348376 1388073 2015 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Silicon surface passivation using thin HfO2 films by atomic layer deposition
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Silicon surface passivation using thin HfO2 films by atomic layer deposition
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 357, Part A, 1 December 2015, Pages 635-642
نویسندگان
, , , , , , , ,