کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5348428 | 1388079 | 2015 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Performance improvement of GaN-based HEMT grown on silicon (1Â 1Â 1) substrate by inserting low temperature AlN layer
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
By inserting low temperature AlN, a thicker GaN layer on Si substrate without crack was obtained. After comparing the pit densities, etching pit densities, and calculating the dislocations from XRD measurements, results indicated that adding more insertion layers further improved the crystalline quality. The electrical properties were studied by the fabrication of HEMT. The results showed that the off-state drain leakage current was reduced by about two orders magnitude from 1.6Â ÃÂ 10â1Â mA/mm to 3.2Â ÃÂ 10â3Â mA/mm. Moreover, IDS,max and gm,max could be optimally increased.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 354, Part A, 1 November 2015, Pages 148-154
Journal: Applied Surface Science - Volume 354, Part A, 1 November 2015, Pages 148-154
نویسندگان
Jyun-Hao Lin, Shyh-Jer Huang, Yan-Kuin Su, Chao-Hsing Lai,