کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5349779 | 1503646 | 2014 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Use of n-type semiconductor silicon as substrate material for electrodeposition of Zn1âxFex alloy thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Zn1âxFex alloys were electrochemically deposited on semiconductor silicon substrates from sulfate bath. Effect of bath composition on phase formation, chemical composition, crystallite shape, electrical resistivity and magnetoresistance were investigated using appropriate characterization tools. It was shown that Zn-Fe alloys can be successfully deposited directly on semiconductor silicon substrate using electrodeposition technique. Iron content in films influences crystallite size, resistivity and magnetoresistance of films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 318, 1 November 2014, Pages 305-308
Journal: Applied Surface Science - Volume 318, 1 November 2014, Pages 305-308
نویسندگان
Ä°smail Ä°limbey, KaÄan Yurdal, Ãmer Faruk BakkaloÄlu, Ä°smail Hakkı Karahan, Metin Bedir,