کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355279 | 1503694 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling the reactive sputter deposition of N-doped TiO2 for application in dye-sensitized solar cells: Effect of the O2 flow rate on the substitutional N concentration
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Berg model was applied to simulate the deposition of N-doped TiO2. ⺠N-doped TiO2 is grown from chemisorption and oxidation of TiN. ⺠Substitutional N is mainly incorporated from oxidation of TiN.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 55-59
Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 55-59
نویسندگان
D.A. Duarte, J.C. Sagás, A.S. da Silva Sobrinho, M. Massi,