| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 5355279 | 1503694 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												Modeling the reactive sputter deposition of N-doped TiO2 for application in dye-sensitized solar cells: Effect of the O2 flow rate on the substitutional N concentration
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												کلمات کلیدی
												
											موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													شیمی
													شیمی تئوریک و عملی
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												 
												چکیده انگلیسی
												⺠Berg model was applied to simulate the deposition of N-doped TiO2. ⺠N-doped TiO2 is grown from chemisorption and oxidation of TiN. ⺠Substitutional N is mainly incorporated from oxidation of TiN.
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 55-59
											Journal: Applied Surface Science - Volume 269, 15 March 2013, Pages 55-59
نویسندگان
												D.A. Duarte, J.C. Sagás, A.S. da Silva Sobrinho, M. Massi,