کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355589 | 1503599 | 2016 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Surface sealing using self-assembled monolayers and its effect on metal diffusion in porous low-k dielectrics studied using monoenergetic positron beams
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
- Pores with cubic pore side lengths of 1.1 and 3.1Â nm coexisted in the low-k film.
- For the sample without the SAM sealing process, metal atoms diffused from the top Cu/MnN layer into the OSG film and were trapped by the pores. Almost all pore interiors were covered by those metals.
- For the sample damaged by a plasma etch treatment before the SAM sealing process, self-assembled molecules diffused into the OSG film, and they were preferentially trapped by larger pores.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 368, 15 April 2016, Pages 272-276
Journal: Applied Surface Science - Volume 368, 15 April 2016, Pages 272-276
نویسندگان
Akira Uedono, Silvia Armini, Yu Zhang, Takeaki Kakizaki, Reinhard Krause-Rehberg, Wolfgang Anwand, Andreas Wagner,