کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5356730 1388208 2012 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and mechanical properties of TiC films deposited using combination of pulsed DC and normal DC magnetron co-sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Structure and mechanical properties of TiC films deposited using combination of pulsed DC and normal DC magnetron co-sputtering
چکیده انگلیسی
► Variation of preferred orientation with carbon content in the film. ► Variation of surface microstructure with Ti and C ratio. ► Coefficient of friction varies between 0.15 and 0.04 for all Ti and C ratio. ► Synthesis of TiC thin films using pulsed balanced magnetron sputtering. ► Better mechanical properties with reduced ion bombardment effect.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8629-8635
نویسندگان
, , , ,