کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5361635 | 1388275 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Preparation of transparent conductive TiO2:Nb thin films by pulsed laser deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
This study investigated the optical and electrical properties of Nb-doped TiO2 thin films prepared by pulsed laser deposition (PLD). The PLD conditions were optimized to fabricate Nb-doped TiO2 thin films with an improved electrical conductivity and crystalline structure. XRD analyses revealed that the deposition at room temperature in 0.92 Pa O2 was suitable to produce anatase-type TiO2. A Nb-doped TiO2 thin film attained a resistivity as low as 6.7 Ã 10â4 Ω cm after annealing at 350 °C in vacuum (<10â5 Pa), thereby maintaining the transmittance as high as 60% in the UV-vis region.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 24, 30 September 2009, Pages 9695-9698
Journal: Applied Surface Science - Volume 255, Issue 24, 30 September 2009, Pages 9695-9698
نویسندگان
K. Tonooka, Te-Wei Chiu, N. Kikuchi,