کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5361770 | 1388276 | 2012 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
First observation on the feasibility of scratch formation by pad-particle mixture in CMP process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We investigate the effect of polishing pad on the scratch formation during CMP. ⺠Both systematic experiment and computational simulation are used. ⺠The material properties of a pad change during CMP process. ⺠We first reveal the formation mechanism of pad-particle mixture during CMP. ⺠Pad-particle mixture is one of the major factors leading to scratch generation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 20, 1 August 2012, Pages 8298-8306
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 20, 1 August 2012, Pages 8298-8306
نویسندگان
In-Ha Sung, Hong Jin Kim, Chang Dong Yeo,