کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5363942 | 1388308 | 2008 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Utilization of TXRF analytical technique in order to improve front-end semiconductor processing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this paper, we summarize how the introduction of in-line TXRF monitoring provides detailed analytical information on aluminum, titanium and molybdenum contamination levels in order to improve several process steps from front-end processing, minimize product yield loss and make it possible to successfully manufacture multiple products and process geometries in the same fabrication platform.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 15, 30 May 2008, Pages 4768-4773
Journal: Applied Surface Science - Volume 254, Issue 15, 30 May 2008, Pages 4768-4773
نویسندگان
Thanas Budri,