کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5365946 | 1388341 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Preparation and characterizations of amorphous nanostructured SiC thin films by low energy pulsed laser deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Amorphous silicon carbide (SiC) thin films were deposited on silicon substrates by pulsed laser ablation at room temperature. Thicknesses and surface morphology of the thin films were characterized using optical profilers, atomic force and field emission scanning electron microscopy. Nanohardnes, modulus and scratch resistance properties were determined using XP nanoindenter. The results show that crack free, smooth and nanostructured thin films can be deposited using low laser energy densities.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 7, 15 January 2010, Pages 2056-2060
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 7, 15 January 2010, Pages 2056-2060
نویسندگان
H. ElGazzar, E. Abdel-Rahman, H.G. Salem, F. Nassar,