کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5368932 | 1388414 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Observation of new critical point in InxAl1âxAs alloy using spectroscopic ellipsometry
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Observation of new critical point in InxAl1âxAs alloy using spectroscopic ellipsometry Observation of new critical point in InxAl1âxAs alloy using spectroscopic ellipsometry](/preview/png/5368932.png)
چکیده انگلیسی
Using a spectroscopic ellipsometry, pseudodielectric functions ãÉã of InxAl1âxAs ternary alloy films (x = 0.43, 0.62, 0.75, and 1.00) from 0.74 to 6.48 eV were determined. Fast in-situ chemical etching to effectively remove surface overlayers using charge-coupled device detector and to avoid the reoxidation of the surface of films prior to the ellipsometric spectrum measurement was performed. At the high energy region, an additional critical point structure which is interpreted as the Eâ²1 transition from the band structure calculation of the linear augmented Slater-type orbital method was reported.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 4, 30 November 2009, Pages 1031-1034
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 4, 30 November 2009, Pages 1031-1034
نویسندگان
J.J. Yoon, T.H. Ghong, J.S. Byun, Y.J. Kang, Y.D. Kim, H.J. Kim, Y.C. Chang, J.D. Song,